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產品詳情
  • 產品名稱:小型真空氣氛水平式區熔爐

  • 產品型號:CY-1200X-20-TM
  • 產品廠商:成越科儀
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簡單介紹:
小型真空氣氛水平式區熔爐該設備屬于水平管式區熔結晶爐,是緊湊型桌面式科研專用區域熔煉設備
詳情介紹:

小型真空氣氛水平式區熔爐該設備屬于水平管式區熔結晶爐,是緊湊型桌面式科研專用區域熔煉設備,依托局部定點加熱 + 樣品勻速平移原理實現材料提純、單晶生長,整機集成溫控、平移驅動、真空氣氛管路系統,體積小巧,適配高校實驗室新材料研發小試樣制備場景。

二、核心工作用途

1.材料提純:利用區域熔煉偏析效應,金屬、半導體、無機化合物棒料逐段熔融移動,雜質向棒材兩端富集切除,大幅提升原料純度;

2.定向單晶生長:在惰性氣氛 / 真空環境下制備一維定向晶體、纖維狀單晶;

3.梯度退火 / 固相反應:樣品勻速經過溫區,實現材料梯度熱處理、固相擴散合成;

4.相圖研究、固溶體制備:制備成分均勻的合金、陶瓷固溶體試樣。

三、應用領域

1.半導體材料:鍺、硅、II-VI 族半導體單晶提純與小尺寸晶棒制備;

2.新能源材料:熱電材料、鋰電池固態電解質、鈣鈦礦前驅體晶體制備;

3.無機功能陶瓷:氧化物陶瓷、超導材料、稀土功能晶體研發;

4.金屬冶金:稀有金屬、貴金屬、特種合金高純精煉;

5.高校科研院所:材料科學、凝聚態物理實驗室教學與課題實驗。

四、設備核心優點

1.體積迷你,桌面擺放:整機臺式一體化,無需大型實驗室基建,占地小、搬運便捷;

2.無坩堝污染:局部熔融區懸浮熔煉,不接觸坩堝容器,避免容器雜質摻入樣品;

3.移動精度極高:樣品平移速度連續可調,低速運行保障單晶生長均勻性;

4.氣氛 / 真空雙環境適配:可抽真空,通入氬氣、氮氣等保護氣體,隔絕氧化;

5.智能觸控溫控:觸摸屏可編程多段升降溫,PID 閉環控溫,溫度波動小;

6.節能耐用:輕質陶瓷纖維爐膛保溫優異,外殼風冷降溫,外壁低溫防**;

7.可視化工藝:管路配備壓力表,實時監測腔內氣壓,工藝過程可控可追溯。

五、技術參數

產品名稱

小型真空氣氛水平式區熔爐

設備型號

CY-1200X-20-TM

*高溫度

1200℃

長期連續工作溫度

≤800℃

有效加熱區長度

20mm

樣品*大平移行程

200mm

樣品移動速度

0.1~300mm/h 連續無級可調

爐管材質

高純透明石英管

標準爐管內徑

Φ20mm(可定制)

控溫方式

7 英寸觸摸屏 + 30 段可編程 PID 控溫

控溫精度

±1℃

加熱元件

鐵鉻鋁高溫合金加熱絲

腔體環境

高真空(10?3Pa/ 惰性保護氣氛兩用

整機功率

1.2kW

供電電源

AC220V/50Hz

**配置

急停按鈕、超溫斷電保護、過熱報警

冷卻方式

雙層爐體風冷循環冷卻

整機外形

臺式一體化緊湊型結構

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