一．設備介紹

粉體等離子清洗機屬于真空低溫等離子表面處理設備，采用旋轉滾筒 / 轉瓶結構，使粉體顆粒持續翻滾，解決普通等離子設備粉體堆積、處理不均勻的問題。在真空環境下，射頻電源電離工藝氣體產生等離子體，通過高能離子、自由基對粉體顆粒表面進行物理轟擊與化學反應，只改變粉體表面理化特性，不改變粉體本體材料性能，可完成粉體清洗、除氧化、活化、刻蝕、接枝改性，適配納米、微米級各類粉末顆粒材料。

二．用途

表面清洗：去除粉體表面有機污染物、油污、吸附水汽、表層氧化物、殘留鹽類雜質。

表面活化改性：引入羥基、羧基、氨基等活性官能團，提升粉體表面能，改變親疏水特性。

解團聚：打散納米粉體團聚顆粒，大幅提升粉體在溶劑、樹脂基體中的分散性與相容性。

微刻蝕 / 灰化：粉體表層微刻蝕；有機粉體低溫灰化處理。

表面接枝：通入特種工藝氣體，實現粉體表面功能基團接枝，定制表面功能。

三．應用領域

新能源材料：鋰電池正負極粉體、燃料電池催化劑、超級電容電極粉體，提升導電性、循環穩定性、催化活性。

陶瓷與無機粉體：氧化鋁、氧化鋯、碳化硅、二氧化硅粉體，提升燒結活性、改善漿料分散性。

高分子粉體：PTFE、PE、PP 塑料粉末、橡膠粉，改善與填料、膠粘劑的界面結合力。

化工催化：各類催化劑粉末、炭黑、碳納米管，優化催化位點，提高反應效率。

科研實驗室：高校、科研院所新材料研發，納米粉體前處理，材料表面機理研究。

電子封裝材料：導電粉體、導熱填料粉體改性，提升復合材料導熱導電性能。

四．優點

處理均勻：滾筒動態翻滾，粉體顆粒充分接觸等離子體，無處理死角，批次一致性好。

全干式工藝：無需化學溶劑，無廢水廢液，綠色環保，不會引入二次雜質污染粉體。

低溫處理：低溫等離子，粉體整體溫升低，可處理熱敏高分子粉體，不損傷粉體本體性能。

工藝靈活：功率、時間、氣體種類、轉速均可調節，可實現清洗、活化、刻蝕多種工藝切換。

兼容性廣：金屬、陶瓷、高分子、復合粉體均可處理，適配納米?微米寬粒徑范圍。

**易操作：PLC 觸摸屏控制，可存儲多組工藝配方；內置粉體過濾防護，避免粉末進入真空泵，延長泵壽命。

五．技術參數：

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