- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機(jī)
- 涂布機(jī)
- 等離子清洗機(jī)
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機(jī)
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機(jī)
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機(jī)
- 真空手套箱
- 真空熱壓機(jī)
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計(jì)
- 真空法蘭
- 混料機(jī)設(shè)備
- UV光固機(jī)
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備
- 實(shí)驗(yàn)室產(chǎn)品配件
- 實(shí)驗(yàn)室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
本設(shè)備的蒸發(fā)源共兩組，采取鎢舟蒸發(fā)源，水冷式銅電極，可*大支持250A的大電流，可實(shí)現(xiàn)多種難熔金屬的蒸鍍。本設(shè)備采用一體化設(shè)計(jì)，腔體和電控部分左右分置，實(shí)現(xiàn)了水電分離，有力的保證了用戶的**。電控部分采用觸控屏和按鈕面板相結(jié)合的設(shè)計(jì)，真空系統(tǒng)、樣品臺(tái)等輔助功能通過觸控屏一鍵操作，通電蒸發(fā)、膜厚控制等通過面板獨(dú)立操作，在盡可能方便用戶的同時(shí)規(guī)避了誤操作的可能。該設(shè)備設(shè)計(jì)完善性能優(yōu)越，是實(shí)驗(yàn)室高精度蒸發(fā)鍍膜試驗(yàn)的必備之選。
技術(shù)參數(shù)：
多源高真空蒸發(fā)鍍膜儀
型號(hào)
CY-EVH325-Ⅱ-HH-SS
樣品臺(tái)
尺寸
*大支持φ150mm樣品
高度
上下70mm可調(diào)
蒸發(fā)源
數(shù)量
鎢舟x2
真空腔體
腔體尺寸
φ325x600mm
觀察窗口
前置φ100mm
腔體材料
304不銹鋼
開啟方式
前開門式
膜厚控制
晶振式膜厚測量儀，可選多通道膜厚控制儀
真空系統(tǒng)
前級(jí)泵
雙極旋片泵
抽氣接口
KF16
次級(jí)泵
渦輪分子泵
抽氣接口
CF160
真空測量
復(fù)合真空計(jì)
排氣速率
機(jī)械泵1.1L/s 分子泵 600L/s
極限真空
1.0E-5Pa
供電電源
AC 220V 50/60Hz
抽氣速率
旋片泵：1.1L/S
控制系統(tǒng)
PLC自動(dòng)控制 操作界面：觸控屏+操作面板
其他
供電電壓
AC380V,50Hz
整機(jī)尺寸
1000mm X900mm X 1500mm
整機(jī)重量
550kg
整機(jī)功率
6kW
